科技日报
近期,一则消息在各大视频平台广为传播,称清华大学EUV项目把ASML的光刻机巨大化,实现了光刻机国产化,并表示这个项目已经在雄安新区落地。
称该项目并非网传的国产光刻机工厂,而是北京高能同步辐射光源项目(HEPS)。
对此,中国电子工程设计院有限公司(下称中国电子院)9月18日发声,
北京高能同步辐射光源项目坐落于北京怀柔雁栖湖畔,是国家“十三五”重大科技基础设施,它是我国第一台高能量同步辐射光源,也是世界上亮度最高的第四代同步辐射光源之一。该项目早在2019年就开始建设,将于2025年底投入使用。
中国电子院解释称,HEPS可以看成是一个超精密、超高速、具有强大穿透力的巨型X光机,它产生的小光束可以穿透物质、深入内部进行立体扫描,从分子、原子的尺度多维度地观察微观世界,HEPS是进行科学实验的大科学装置,并不是网传的光刻机工厂。